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蒙脱石混悬液均质机
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所属分类:高剪切均质机
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蒙脱石混悬液均质机,如果采用SGN研磨均质机的话,不仅可以对蒙脱石混悬液粒径进行细化,还可以将混悬液均质的更均匀。这取决于上海思峻研磨均质机的特殊设计,SGN研磨均质机将胶体磨和均质机合二为一,先研磨细化粒径,再对物料进行均质,使蒙脱石混悬液更加细腻、均匀、稳定。

蒙脱石混悬液均质机产品概述:

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蒙脱石混悬液由主药蒙脱石、助悬剂、矫味剂等组成,用于治疗腹泻及消化道溃疡等效果显著。其具有服用剂量准确、服用携带方便、粒度较细、服用后可快速均质到人体消化道、效果更好等多种优点。混悬液的制备原则首先是使粉粒润湿并在液体均质介质中均匀均质,保持一定条件使其尽量不聚集,然后采取一定的措施防止结块。
 
制备方法通常混悬液的有两种:均质法和凝聚法。由于蒙脱石本身的性质我们采用的是均质法,混悬液中微粒的大小不仅关系到混悬液的质量和稳定性,也会影响混悬液的药效和生物利用度。所以测定混悬液中微粒大小及其分布,是评定混悬液质量的重要指。由于本研究的蒙脱石采用的是法国益普生公司研制的商品名为思密达的蒙脱石散剂,故其微粒大小符合要求,无需测其微粒大小。
           
研磨均质机      

当蒙脱石混悬液的工艺配方确定时,为了降低沉降系数,我们可以通过减小粒子的半径来缩小沉降系数。蒙脱石混悬液粒径的细化,取决于均质设备的选择。如果采用SGN研磨均质机的话,不仅可以对蒙脱石混悬液粒径进行细化,还可以将混悬液均质的更均匀。这取决于上海思峻研磨均质机的特殊设计,SGN研磨均质机将胶体磨和均质机合二为一,先研磨细化粒径,再对物料进行均质,使蒙脱石混悬液更加细腻、均匀、稳定。

GMD2000系列研磨均质设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨均质乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料均质乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)


GMD2000系列均质机的结构:研磨式均质机是由锥体磨,均质机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。均质头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

           
的特点:

①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

选型表

规格

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

 

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

 

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

 

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

 

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

 

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

 

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 
 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。


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