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纳米粉体胶体磨
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所属分类:超细胶体磨
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纳米粉体胶体磨,SGN胶体磨GM2000系列特别适合于胶体溶液、纳米悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,GM2000在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。

纳米粉体胶体磨产品概述:

纳米粉体胶体磨,纳米粉体研磨设备,纳米粉体胶体磨,纳米粉体研磨机,纳米粉体高速剪切胶体磨,纳米胶体磨,纳米胶体磨

纳米粉体的分散是基础研究领域和工业技术部门普遍遇到的课题,其应用日益广泛,如化工、医药、涂料、材料、食品等。分散技术不仅是提高产品质量和性能及提高工艺效率不可缺少,而且是十分重要的技术手段。

但是由于纳米粉体粒度小,极易产生自发凝并,表现出强烈的聚团特性,不论在空气中还是在液相中均易生成粒径较大的二次粉体,聚团的结果导致纳米粉体材料性能的严重劣化。另一方面,在复合材料的制备过程中,由于纳米粉体的这种强烈团聚特性和它与复合基体材料的极性差异,纳米粉体很难均匀地分散在基体材料中形成均质复合材料,是复合材料的性能难以达到人们预期的效果。            
   
所以为了解决这一问题,各种类型的分散设备应运而生,粉体的分散、混合与均化在粉体技术中有三个目的。其一是使团聚粉体的碎解和分散,尽力使团聚粉体达到单粉体分散;其二是在粉体制备过程中由于各部分或前后生产的产品的成分或粒度不均匀,而在使用时需要性能均一的粉体材料,为了消除各部分性能上的差异,需要对粉体材料进行分散、混合与均化处理;其三是,有些粉体材料需要进行改性处理,为了保证改性处理的均一性,也需要进行分散、混合与均化处理。

SGN胶体磨GM2000系列特别适合于胶体溶液、纳米悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,GM2000在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。

              
SGN胶体磨结构:

三道磨碎区:一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区。

我们的磨头的结构:沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下,而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大,这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。


GM2000系列高剪切胶体的特点:

1、定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

2、齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。

3、沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。


GM2000系列设备选型表

型号

流量

L/H

输出转速

rpm

线速度

m/s

马达功率

KW

出/入口连接

GM2000/4

700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GM2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GM2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50/DN50

GM2000/20

20,000

2,850

23

37

DN80/DN65

GM2000/30

40,000

1,420

23

55

DN150/DN125

GM2000/50

80,000

1,100

23

110

DN200/DN150

注:流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同事流量可以被调节到zui大允许量的10% 

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