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创新型纳米胶体磨
型    号:GMD2000
所属分类:纳米胶体磨
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创新型纳米胶体磨,上海SGN技术,独特创意,融化理念。将SGN纳米高剪切胶体磨进行进一步的改进,在原来GM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改进成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改进型的纳米胶体磨。

创新型纳米胶体磨产品概述:

一、产品名称:创新型纳米胶体磨,创新纳米胶体磨,改进型纳米胶体磨,改良型纳米胶体磨,研磨分散胶体磨,纳米研磨分散机

 

二、创新型纳米胶体磨简介

 

上海SGN技术,独特创意,融化理念。将SGN纳米高剪切胶体磨进行进一步的改进,在原来GM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改进成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改进型的纳米胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种创新的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。

,这种独特的设计,放眼世界,独上海SGN一家,更多关于创新型胶体磨的信息,请接洽上思峻,刘!                         
           
创新型胶体磨

三、结构

 

创新型胶体磨,研磨分散机,简单的来讲就是将高剪切胶体磨和高剪切分散机,合二为一了。同时具备胶体磨和分散机的功能,并且减少了胶体磨和分散机串连后的,时间差因素。从成本上来讲,原先两台设备的价格,现在用一台研磨分散机就可以完成,性价比更高。

 

GMD2000系列创新型胶体磨,研磨分散机的结构:研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

GMD2000系列创新型胶体磨,研磨分散设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)


 

 

  创新胶体磨
         
四、GMD2000系列纳米创新型胶体磨特点:

 

①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

 

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

 

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

 

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

 

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

,研磨分散机,研磨均质机,研磨乳化机,全新的设计理念,超高设备剪切力,以及稳定的设备运行,SGN为广大企业提供优质的设备服务!

 

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