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纳米胶体磨组成：是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
纳米胶体磨要求：SGN 在GM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GMS2000超高速胶体磨，转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒径分布更小。作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒)，所以在很多场合下，它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款纳米高速胶体磨比普通胶体磨速度达到3倍以上，zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
SGN设备选型表：
| 超高速胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| GMS 2000/4 | 700 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
| GMS 2000/5 | 3,000 | 10,500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
| GMS 2000/10 | 8,000 | 7,300 | 44 | 22 | DN50/DN50 |
| GMS 2000/20 | 20,000 | 4,200 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
| GMS 2000/30 | 40,000 | 2,850 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
| GMS 2000/50 | 80,000 | 2,000 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
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| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
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