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13681679740产品介绍
研磨分散机厂家组成:由高纯度的金属银的微粒、粘合剂、溶剂、助剂所组成的一种机械混和物的粘稠状的浆料。导电银浆对其组成物质要求是十分严格的。其品质的高低、含量的多少,以及形状、大小对银浆性能都有着密切关系。银粉的分散效果直接关系到银浆的质量。所以采用好的分散设备对银粉的分散是至关重要的,当然分散剂的应用也是*的。
研磨分散机厂家性能:纳米银粉分散混合设备,纳米银粉分散,银粉比表面积较大,易发生团聚很难分散,如何将银粉制成银浆?银浆的制备,炭黑的制备,银粉的分散,炭黑的分散,高剪切分散机可帮您解决此类难题。结合客户实验案例,采用SGN进行银粉处理,不仅生产效率快,一般研磨5-10遍即可;而且这种方式相对于三辊机以及砂磨机而言,物料损失更小。
厂家经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是所说的湿磨。
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
| 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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GMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD 2000/10 | 3000 | 7,300 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 2,000 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
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