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中试型研磨分散机
型    号:GMD2000/4
所属分类:研磨分散机
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中试型研磨分散机,专为实验室研发,模拟生产流程,为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同,且分散头的种类及相应线速度也相同,中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整,而将机器型号升级过程中的风险降到Z低。

中试型研磨分散机产品概述:

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专为实验室研发,模拟生产流程,为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同,且分散头的种类及相应线速度也相同,中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整,而将机器型号升级过程中的风险降到zui低。
 

SGN中试型研磨分散机是在中试型胶体磨的基础上加入了一组分散盘,剪切细化能力要强于高剪切胶体磨。
      
GMD2000/4中试型研磨分散设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

        
GMD2000/4的特点:

① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

   
SGN中试型研磨分散设备的胶体磨头有很高的线速度,以及特殊上深下浅的三级磨头结构,一次处理即可满足细化要求。*级刀头形状,可以把相对大块的物料进行初步粉碎,以便能顺利通过更细的两级进行细微化研磨。磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下浅的齿列结构,相较沟槽是直线,同级的沟槽深度一样的磨头,可以保证物 料从上往下一直在进行研磨。虽和其它产品一样磨头采用三级磨齿,但他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

    
GMD2000/4为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到zui低,保证机器连续24小时不停机运行。

 

GMD2000/4中试型研磨分散设备有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,GMD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送。           
GMD2000研磨分散机标准配置所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢。 特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷。    

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