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粉底研磨分散机
型    号:GMD2000
所属分类:研磨分散机
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粉底研磨分散机,SGN研磨分散机是一种剪切力很大的乳化设备,其主要部件是转子和定子,转子转速可达7890/13789RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速,轴承可以承受140000RPM(转速是普通胶体磨的3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好),可以迅速地将液体、固体或胶体粉碎成微粒,并且混合均匀。

粉底研磨分散机产品概述:

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粉底的类型很多,粉底液、粉饼装与散粉装三种,这些粉底均用于调整肤色,改善面部质感,遮盖瑕疵,体现质感,粉底的数值越大,颜色越深,使用时与肤色的色差不要过大,应选择与肤色接近的粉底。

 

粉底化妆品乳体液是有油、脂、蜡等许多原料混合而成的一种体系,因此混合机是重要的设备。为要制得高质量的乳体液,必须选用符合生产要求的乳化设备。研磨分散机是一种剪切力很大的乳化设备,其主要部件是转子和定子,转子转速可达7890/13789RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速,轴承可以承受140000RPM(转速是普通胶体磨的3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好),可以迅速地将液体、固体或胶体粉碎成微粒,并且混合均匀。

   

粉底研磨分散机GMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

GMD2000 系列研磨分散设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。

 

工作原理:研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

 

粉底研磨分散设备是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品:

 

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

 

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

GMD2000系列研磨分散设备选型表

 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

 

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