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氮化物研磨分散机
型    号:GMD2000
所属分类:研磨分散机
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氮化物研磨分散机,SGN纳米氢氧化镁研磨式分散机,是由胶体磨+高剪切分散机组成,形成一体化的设备,先研磨后分散,避免物料团聚。

氮化物研磨分散机产品概述:

氮化物研磨分散机,氮化物分散机,氮化物高速分散机,氮化物纳米分散机,氮化物超细分散机

 

氮化物,氮化物是一类氮的化合物,其中氮显-3价。包括金属氮化物、非金属氮化物和氨(NH3,氮负三价),习惯上将氨作为一种特殊物质,不列入氮化物中。金属氮化物的热稳定性高,可用作高温绝缘材料。非金属氮化物的热稳定性也比较高,各具特殊性质。六方氮化硼是优良润滑剂;而立方氮化硼硬度大,可用来制车刀、钻头等。

 

氮化物的应用和氧化物的应用都需要将粉体物料均匀的分散到液体介质当中,需要进行研磨分散细化,SGN分散设备采用特殊的内部结构,将研磨机和分散机合二为一,物料可以实现一步到位的研磨分散处理,氮化物浆料分散采用SGN研磨分散设备可以获得均匀的浆料体系,并且物料粒径一般可细化至DN90≤1μm。

  

SGN研磨式分散机,将胶体磨和分散机一体化结合,先研磨后分散机,解决团聚问题!


GMD2000系列研磨式分散设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
              

GMD2000系列研磨式分散机的特点:

①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

 

GMD2000系列研磨分散机设备选型表

 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2.处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

3.如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。

4.本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准.
 

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信息来源:www.sgnprocess。。cn

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